题目内容：
硅片键合技术主要是由于吸附在被氧化的两个硅表面的羟基团吸引形成氢键所致。
A.正确
B.错误
参考答案：【答案仅供学习，请勿对照自行用药等】
选择题：硅片键合技术主要是由于吸附在被氧化的两个硅表面的羟基团吸引形成氢键所致。
- 题目分类：中国大学MOOC慕课
- 题目类型：选择题
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